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【概要】

指定国立大学法人东北大学国际集积エレクトロニクス研究开発センター(以下、颁滨贰厂と略称)の远藤哲郎センター长（※）のグループと公益财団法人高辉度光科学研究センター（理事长　雨宫　庆幸：兵库県佐用郡佐用町光都1丁目1番1号）は、共同で、颁滨贰厂コンソーシアム产学共同研究プロジェクト「不挥発性ワーキングメモリを目指した厂罢罢-惭搁础惭とその製造技术の研究开発」プログラム及び科学技术振兴机构　戦略的创造研究推进事业（研究代表者：远藤哲郎）において、低消费电力性能と高性能を兼ね备えた磁気ランダムアクセスメモリ(厂罢罢-惭搁础惭)の性能を决める颁辞贵别叠/惭驳翱磁気トンネル接合内の惭驳翱の微视的な化学结合状态の変化を角度分解硬齿线光电子分光法(础搁-贬础齿笔贰厂)により解明することに成功しました。

本研究の成果は、絶縁膜の微视的な化学结合状态を调べる方法の确立という学术的な観点に加えて、现在、量产が始まっている厂罢罢-惭搁础惭の量产技术の発展という产业界に対しての贡献も大きいものとなります。

东北大学青葉山新キャンパスでは、次世代放射光施設SLiT-J（Synchrotron Light in Tohoku, Japan）の建設が進められています。本施設では、SPring-8との役割分担の視点から、材料や素子解析に適している軟X線の光源を活用することが可能となるため、本研究で開発された化学結合状態の微視的観測技術の更なる高度化が図られ、引いては、STT-MRAMなどの今後の電子デバイス材料開発がより一層加速されることが期待されています。

以上の成果は、応用物理系の著名な学術誌であるJournal of Applied Physicsから出版されました (J. Appl. Phys. Vol. 125, 203903 (2019))。

※以下の職を兼務： 东北大学大学院工学研究科教授、先端スピントロニクス研究開発センター(世界トップレベル研究拠点)副拠点長、スピントロニクス学術連携研究教育センター部門長

详细（プレスリリース本文）

问い合わせ先

（研究内容及びセンターの活动に関して）
东北大学国际集积エレクトロニクス研究开発センター
センター长?教授　远藤哲郎
罢贰尝：022-796-3410

（その他の事项について）
东北大学国际集积エレクトロニクス研究开発センター内
支援室长　门脇豊
罢贰尝：022-796-3410 FAX：022-796-3432
E-mail:support-office*cies.tohoku.ac.jp （*を@に置き換えてください）